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一种浸没式掩模冷却装置及冷却方法

  • 申请号:CN201610920670.4 申请公布号: CN107976868B
  • 申请日: 2016-10-21 申请公布日: 2020-02-18
  • 申请(专利权)人:上海微电子装备(集团)股份有限公司 专利代理机构: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
  • 分类号:G03F7/20(20060101)

专利介绍

本发明涉及一种浸没式掩模冷却装置及冷却方法,该装置包括围设于掩模外侧的冷却框架,所述冷却框架顶部设有透明罩板,所述冷却框架与所述透明罩板密封连接,所述冷却框架的内侧壁、所述掩模的上表面以及所述透明罩板的下表面形成密闭空间,所述密闭空间内通有流动的冷媒。本发明在原有掩模台的结构基础上,增加可以直接对掩模四周及表面进行冷却的冷却框架,针对掩模本身进行浸没式迅速冷却降温;同时由于冷却框架顶部为透明罩板,不会影响掩模的曝光过程。